第419章 被打开的门不只一扇

第419章 被打开的门不只一扇 (第1/2页)

白板前李东停下了笔。
　　
　　几个工程师互相看了看，眼里那点睡意，早不知道飞哪儿去了。
　　
　　“大概，就是这麽个意思。”李东看着众人，“明白吗？”
　　
　　在场没有人说话，他们都齐刷刷的看向了王勍。
　　
　　而王勍这会儿正看着白板出神。
　　
　　林伟皱了皱眉，伸手在他肩上拍了一下。
　　
　　“老王，你怎麽说？”
　　
　　王勍这才反应了过来。
　　
　　“还……还能这麽干？”
　　
　　他话都说来有点不利索了，声音里那股子兴奋，怎麽也压不住。
　　
　　然後他也没顾着林伟的问话，而是招呼了几个在场的工程师，给他们说了几个原生指令、几个数据通路。
　　
　　让他们拿真东西上去跑一跑，把这条路彻彻底底地验上一验。
　　
　　总之就是要去落实了。
　　
　　而他自己也只是冲着李东点了点头也跟了出去。
　　
　　林伟看着他这架势，悄悄松了口气。
　　
　　老王这人，他是了解的。
　　
　　但凡到了这个样子，那他心里多半就已经有几分把握了。
　　
　　他这才回过头看着李东，郑重地说道。
　　
　　“李东教授，谢谢你。”
　　
　　李东被他谢得有点莫名其妙。
　　
　　“林总，你这是什麽话。”他摇了摇头，“该是我谢你们才对。”
　　
　　林伟也没再多说什麽，只摆了摆手。
　　
　　“以後事上见吧。”
　　
　　接下来，就是等。
　　
　　李东和林伟也没有其他的事，索性就坐下来有一搭没一搭地聊着。
　　
　　不知怎麽，话头就聊到了加速卡上了。
　　
　　林伟给李东递了杯水，半是感慨地说道。
　　
　　“等这回模型在加速卡上落地、真跑通了，往後芯片上怕是还得请您再帮帮忙。”
　　
　　“我们现在这条线，到七纳米也就到头了。”
　　
　　“再往下就绕不开极紫外光刻机了，可是我们做不出来呀。”
　　
　　华夏眼下能拿得出手的，是上一代的浸没式光刻机（DUV），要不是李东的降维算法，7纳米的芯片都别想。
　　
　　可就算这样基本上也是这条路的尽头了。
　　
　　而林伟说的那个极紫外光刻机（EUV）。
　　
　　它用的光，波长只有十三点五纳米，比DUV那一百九十三纳米，足足短了十几倍。
　　
　　而难就难在这十三点五纳米上。
　　
　　这麽短的光，没有哪种镜片透得过去，整台机器的光学系统，只能全用反射镜。
　　
　　每一面都是几十层钼和矽交替镀上去的。
　　
　　这种平整到近乎一个原子都不许差的镜面，眼下只有一家公司能做，它叫蔡司。
　　
　　除开镜面的问题，还有光源更麻烦。
　　
　　这得拿一束大功率的二氧化碳激光，一秒锺几万次去轰一颗颗高速飞着的锡液滴，把它打成等离子体，才挤得出那一点点十三点五纳米的光。
　　
　　再算上掩膜、光刻胶、工件台，一整条供应链，环环相扣缺一环都转不起来。
　　
　　而是这一整台极紫外光刻机，连同它身後那条供应链，被ASML、蔡司这些公司攥在手里攥了几十年了。
　　
　　华夏想从头把这一整套趟出来，缺的是是积累。
　　
　　李东听完，点了点头，他知道极紫外这条路是急不得的。
　　
　　不知不觉，窗外的天，已经彻底亮了。
　　
　　实验区传来一阵脚步声。
　　
　　

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